ASTM F 1528-1994 用次级离子质谱法测量重掺杂N型硅基质中硼杂质的标准试验方法
作者:标准资料网
时间:2024-05-30 00:42:22
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【英文标准名称】:StandardTestMethodforMeasuringBoronContaminationinHeavilyDopedN-TypeSiliconSubstratesbySecondaryIonMassSpectrometry
【原文标准名称】:用次级离子质谱法测量重掺杂N型硅基质中硼杂质的标准试验方法
【标准号】:ASTMF1528-1994
【标准状态】:作废
【国别】:美国
【发布日期】:1994
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(ASTM)
【起草单位】:ASTM
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:硼;污染;质谱学;半导体;硅半导体;试验;硼杂质;用次级离子质谱法;水晶硅基质;硅基质;N型重掺杂;次级铁离子质谱法
【英文主题词】:boron;contamination;siliconsemiconductors;secondaryionmassspectrometrysims;boroncontamination;bysecondaryionmassspectrometry;crystalsiliconsubstrates;epitaxialsubstrate;heavilydopedn;te
【摘要】:
【中国标准分类号】:L40
【国际标准分类号】:31_200
【页数】:
【正文语种】:英语
【原文标准名称】:用次级离子质谱法测量重掺杂N型硅基质中硼杂质的标准试验方法
【标准号】:ASTMF1528-1994
【标准状态】:作废
【国别】:美国
【发布日期】:1994
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(ASTM)
【起草单位】:ASTM
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:硼;污染;质谱学;半导体;硅半导体;试验;硼杂质;用次级离子质谱法;水晶硅基质;硅基质;N型重掺杂;次级铁离子质谱法
【英文主题词】:boron;contamination;siliconsemiconductors;secondaryionmassspectrometrysims;boroncontamination;bysecondaryionmassspectrometry;crystalsiliconsubstrates;epitaxialsubstrate;heavilydopedn;te
【摘要】:
【中国标准分类号】:L40
【国际标准分类号】:31_200
【页数】:
【正文语种】:英语
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